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【赛迪网讯】11月17日音讯，本周四，韩国科技部正式表明，本国科学家现已成功研发出了全球最薄的金属线，而这一成功也被视为足以震动科技领域的重大突破。
分析家指出，跟着这种超薄金属线技能的问世，未来半导体产品将具有更大的容量和更快的速度。据此次研讨小组的12位科学家泄漏，经过此项技能，未来内存芯片的尺度将会极大程度上被下降，而半导体篆刻工艺也将进入全新的2纳米年代。
目前为止，韩国三星旗下最为先进的16G内存依然使用着50纳米设计标准。而业界目前所拟定的方针，也只不过是成功过渡到25纳米技能罢了。此项研讨始于2003年，由韩国科技部所资助，总消耗资金达到了214万美元。
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